कार्यक्षेत्र सीवीडी फर्नेस (इस प्रकार)

विवरण
Vertical सीवीडी ट्यूब भट्ठी (सिलिकॉन कार्बाइड) सामग्री की सतह ऑक्सीकरण प्रतिरोधी कोटिंग बनाने के लिए और मैट्रिक्स material.
 
के पात्रों को बदलने के लिए हवा स्रोत के रूप में (एमटीएस) methyltrichlorosilane को गोद लेतकनीकी विशेषताएं
1। सबसे पहले नियंत्रण प्रौद्योगिकी स्थिर बयान airflow और छोटा सा दबाव में उतार-चढ़ाव range.
2 साकार, प्रवाह और एमटीएस के दबाव को नियंत्रित करने के लिए अपनाया है। वैक्यूम रासायनिक वाष्प जमाव भट्ठी अच्छा सील प्रभाव और महान संदूषण संरक्षण प्रदर्शन का आश्वासन दिया है, जो विशेष रूप से डिजाइन बयान चैम्बर का उपयोग करता है।
3। एकाधिक बयान चैनलों प्रवाह क्षेत्र एकरूपता, गैर बयान मृत कोने और महान बयान surface.
4 आश्वासन देता हूं। यह बयान process.
5 दौरान उच्च संक्षारक पूंछ गैस के लिए उपचार, ज्वलनशील और विस्फोटक गैस, ठोस धूल और कम पिघलने बिंदु चिपचिपा सामग्री है। नए डिजाइन विरोधी जंग वैक्यूम इकाई लंबे समय तक निरंतर काम के घंटे और कम रखरखाव time.

सुनिश्चित करता हैकार्यक्षेत्र सीवीडी ट्यूब भट्ठी की वैकल्पिक विन्यास
1। फर्नेस दरवाजा: पेंच ऊंचाई प्रकार / हाइड्रोलिक ऊंचाई प्रकार / मैनुअल ऊंचाई, मैनुअल तंग / ऑटो लॉक-अंगूठी tight
2। फर्नेस पोत: सभी कार्बन स्टील / भीतरी परत स्टेनलेस स्टील / कुल स्टेनलेस steel
3। गर्म क्षेत्र फर्नेस: शीतल कार्बन / शीतल ग्रेफाइट / हार्ड मिश्रित / CFC
4 लगा लगा। ताप तत्व और ओढ़ना: isostatic प्रेस ग्रेफाइट / प्रेस उच्च शुद्धता, उच्च शक्ति और उच्च घनत्व ग्रेफाइट / ठीक आकार graphite
5। प्रक्रिया गैस प्रणाली: वॉल्यूम / जन प्रवाह मीटर, मैनुअल वाल्व / ऑटो वाल्व, विदेशी ब्रांड / चीनी brand
6। वैक्यूम पंप और गेज: विदेशी ब्रांड / चीनी brand
7। एचएमआई: सिमुलेशन स्क्रीन / टच स्क्रीन / औद्योगिक व्यक्तिगत computer
8। पीएलसी: Omron / Siemens
9। तापमान नियंत्रक: SHIMADEN / EUROTHERM
10। Thermocouple: सी प्रकार, एस प्रकार, कश्मीर प्रकार, एन type
11। रिकॉर्डर: कागज रहित रिकॉर्डर कागज / रिकॉर्डर, विदेशी ब्रांड / चीनी brand
12। इलेक्ट्रिक घटक: CHINT / श्नाइडर / Siemens

कार्यक्षेत्र सीवीडी ट्यूब भट्ठी के विनिर्देशों

युक्ति। \ मॉडल	VCVD-0305-इस प्रकार से	VCVD-0508- इस प्रकार से	VCVD-0812- इस प्रकार से	VCVD-1015- इस प्रकार से	VCVD-1218- इस प्रकार से	VCVD-1520- इस प्रकार से
कार्य क्षेत्र का आकार (डी × एच) (मिमी)	Φ300 500 ×	Φ500 800 ×	Φ800 1200 *	Φ1000 1500 ×	Φ1200 1800 ×	Φ1500 2000 ×
लोड क्षमता (किलो)	50	150	500	1000	2000	3000
Max.Temperature (डिग्री सेल्सियस)	1500	1500	1500	1500	1500	1500
तापमान एकरूपता (डिग्री सेल्सियस)	± 5	± 5	7.5 ±	7.5 ±	± 10	± 10
वैक्यूम रासायनिक वाष्प जमाव भट्ठी का ताप बिजली ((किलोवाट)	45	90	180	300	420	540
अंतिम वैक्यूम (पा)	20	20	20	20	20	20
दबाव बढ़ाने के लिए दर (पीए / एच)	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67
ऊपर मापदंडों प्रक्रिया आवश्यकताओं को समायोजित किया जा सकता है, वे स्वीकृति मानक, विस्तार युक्ति के रूप में नहीं कर रहे हैं। तकनीकी प्रस्ताव और समझौतों में बताया जाएगा।