水平CVD炉（C）

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説明
Horizontal CVD炉（カーボン）は、炭素材料にCVDとCVI処理で動作炭素源として（C3H8のような）炭化水素ガスを使用した複合材料のCVDに適用されます。

技術的特長
1.The炉作業領域のサイズは、スーパーサイズの一部CVD treatment.
2.Horizontal真空炭素炉は大きな温度uniformity.
3.Special設計堆積室の実現と、複数の温度制御ゾーンを採用満たすことができ、5メートル×2.5メートル×2.5メートルに達することができます良好なシール効果と強力な公害防止能力。
4.Multiple堆積チャンネルは、流れ場の均一性、非堆積死角と大きな蒸着surface.
5.Tar、固体粉末を確保し、有機ガスは、堆積process.

中に効果的に治療されています水平CVD炉のオプションの構成
1。炉の扉：タイプ/トロリータイプ、手動タイト/オートロックリングtight
2を回しヒンジ。炉容器：すべての炭素鋼/インナー層ステンレス鋼/総ステンレスsteel
3。ホットゾーンを炉：ソフトカーボン/ソフトグラファイト/ハード複合体は/ CFC
4を感じたフェルト。加熱要素とマッフル：静水圧プレスグラファイト/プレス高純度、高強度、高密度グラファイト/細かいサイズgraphite
5。プロセスガスシステム：ボリューム/質量流量計、手動バルブ/オートバルブ、外国ブランド/中国brand
6。真空ポンプとゲージ：外国ブランド/中国brand
7。 HMI：シミュレーション画面/タッチスクリーン/産業個人computer
8。 PLC：オムロン/ Siemens
9。温度コントローラ：シマデン/ EUROTHERM
10。熱電対：Cタイプ、Sタイプ、Kタイプ、N type
11。レコーダー：ペーパーレスレコーダー/紙レコーダー、外国ブランド/中国brand
12。電気部品：CHINT /シュナイダー/ Siemens
13。ロードトラック：ローラータイプ/フォーク型/二つ折り長距離走行type

水平CVD炉の仕様

スペック\モデル	HCVD -060609-C	HCVD -080812-C	HCVD -101015-C	HCVD -121225-C	HCVD -151530-C	HCVD -252035-C	HCVD -252550-C
ワーキングゾーンサイズ（W×H×L）（mm）の	600×600×900	800×800×1200	×1000×1000 1500	200×2500×1200	1500 1500×3000	2500×2000×3500	2500×2500×5000
負荷容量（キロ）	300	800	1500	2500	5000	10000	20000
Max.Temperature（°C）	1500	1500	1500	1500	1500	1500	1500
温度均一性（°C）	7.5±	7.5±	7.5±	±10	±10	±15	±15
加熱電力（キロワット）	210	360	480	600	900	1200	1600
到達真空度（PA）	20	20	20	20	20	20	20
圧力上昇率（PA / H）	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67	0.67
上記のパラメータは、プロセス要件、それらが合格基準としてではなく、詳細な仕様に調整することができます。技術提案や合意に明記されます。

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